晶圓盒清洗機(jī)

設(shè)備特點(diǎn)、工作原理

在半導(dǎo)體制造過程中，片盒和FOUP的清潔度直接影響到晶圓的良率。我們深知晶圓盒清潔的重要性，經(jīng)過多年的研發(fā)和經(jīng)驗(yàn)積累，推出了一系列高效、精密、節(jié)能的清洗設(shè)備和方案:

• 全方位清洗:采用獨(dú)特的清洗工藝，360度無(wú)死角清洗，確保片盒和FOUP的每個(gè)角落都得到徹底清潔，同時(shí)防止細(xì)菌滋生，維護(hù)晶圓的潔凈環(huán)境。

• 精密清洗技術(shù):自主研發(fā)的雙流體旋轉(zhuǎn)噴射清洗方式，可實(shí)現(xiàn)超微精密清洗，有效去除微小顆粒和化學(xué)殘留,滿足日益提高的清潔度要求。

• 節(jié)能環(huán)保:設(shè)備采用高效節(jié)能設(shè)計(jì)，在確保清洗效果的同時(shí)，盡可能降低能耗，踐行綠色生產(chǎn)理念。

• 去除AMC污染:采用專利干燥技術(shù)，可有效去除AMC(空氣分子污染物)，防止其對(duì)晶圓制程造成影響。

• 智能化管理:設(shè)備全生產(chǎn)過程實(shí)時(shí)監(jiān)控，兼容自動(dòng)傳輸系統(tǒng)(AMHS)，符合GEM300通訊標(biāo)準(zhǔn)以及SEMI S2、S8標(biāo)準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)智能化管理，提高生產(chǎn)效率。

• 高產(chǎn)能低占地:合理的設(shè)備設(shè)計(jì)，在低占地面積下實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能，以12寸FOUP為例，多至25個(gè)/小時(shí)的清洗能力。

我們的清洗設(shè)備和方案可廣泛應(yīng)用于各種規(guī)格的半導(dǎo)體片盒、FOUP、FOSB等，并可根據(jù)客戶的特定需求提供定制化服務(wù)。通過不斷創(chuàng)新和優(yōu)化，我們致力于為客戶提供一流的清洗解決方案，助力半導(dǎo)體制造工藝更上一層樓。